tzxnef一般氧气含量小于0.5ppm，水分含量小于1ppm，这样稳定的氩气可以保障生产出来的晶体质量。
关于成都氩气提纯的方法。
直接脱氧法。它是利用活性金属与氩气中的氧气发生反应来消化氩气中的氧气，从而达到脱氧的目的。分子筛吸收氩气中的水，使氩气的含水量小于1ppm。
清洁表面。
在清洗晶圆、玻璃等产品表面颗粒的过程中，通常采用等离子体轰击材料表面的颗粒，使颗粒分散疏松，然后进行离心清洗等处理过程，会产生显著的效果。这在半导体封装应用中尤为突出。为了防止引线键合过程后引线的氧化，应使用氩等离子体或氩氢等离子体清洗产品表面，以达到更好的产品处理效果。
氩气泄漏的处理措施。
迅速将泄漏污染区的人员撤离至上风处，并进行隔离，严格限制出入。建议应急响应人员穿戴自给式正压呼吸器和普通工作服。尽可能切断泄漏源。合理通风，加速扩散。泄漏的容器应在使用前进行适当的处理、修理和检查。